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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆开发厂坐落于华南中南部,常见产量8寸大半导晶圆,日访问量污废水 废气量约800吨。伴随产量时中操作丰富氢氧化钠通过晶圆蚀刻,会造成污废水 中氟化物氧浓度高至200-300mg/L,远超地方废气规定(10mg/L如下)。 废气因素及由来 废水处理主要存在两个方式: 晶圆蚀刻工作 :含高质量浓度氟化物(HF)、盐酸及多量血本属 普通机戒机戒抛光处理(CMP)废水处理工艺 :含納米级硅小粒、有机质络合剂 专用设备洁净化工废水 :含异丙醇、氯离子等充分物 清理方案方案 用于"化学物质凝固+混泥土凝固+深层次滤过"三阶段工作软件: 三级清理 :添加氯化钙和氢脱色钙,构成氟化钙水解,氟化物除去率达85% 二次净化处理 :获取PAC(配位聚铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),删去胶体溶液态的污染 三级分销加工处理 :用多媒质过滤水器和催化家用活性炭吸收,喷水氟化物溶液浓度不稳在8mg/L有以下 关键因素专用设备有:pH定时转换系统化、斜管乳浊液池、板框压滤机厂家(污泥处理甩干)。 终极结果 大型项目启动三年期监测数剧数剧提示 : 氟化物最低值含量:7.2mg/L(如果低于国内规格) COD的还原率:92% 污泥处理含水量率:≤65% 年回报氟化钙副设备约150吨,变现影视秸秆综合凭借凭借

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